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  • PMOS管,空穴遷移率低解析
    • 發(fā)布時間:2023-06-10 17:11:43
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    PMOS管,空穴遷移率低解析
    MOS管分P溝道和N溝道兩種。因?yàn)镹MOS管導(dǎo)通電阻小,容易制造,多數(shù)人都是使用NMOS管。但并非所有的工廠都會選擇NMOS管,比如一些中小型的數(shù)字控制電路至今仍然采用PMOS管技術(shù)。
    PMOS管 空穴遷移率
    P溝道MOS管的空穴遷移率低,因而在MOS管的幾何尺寸和工作電壓絕對值相等的情況下,PMOS管的跨導(dǎo)小于N溝道MOS管。此外,P溝道MOS管閾值電壓的絕對值普通偏高,有較高的工作電壓。
    它的供電 電源 的電壓大小和極性,與雙極型晶體管——晶體管邏輯電路不兼容。這就給PMOS管的使用范疇有了一定的限制。
    PMOS管 空穴遷移率
    PMOS管因邏輯擺幅大,充電放電過程長,加之器件跨導(dǎo)小,所以工作速度更低,在NMOS管電路呈現(xiàn)之后,多數(shù)已為NMOS電路所取代。
    只是,因PMOS管電路工藝簡單,價錢低廉,有些中范圍和小范圍數(shù)字控制電路仍采用PMOS管電路技術(shù)。PMOS管的特性,Vgs小于一定的值就會導(dǎo)通,適宜用于源極接VCC時的情況(高端驅(qū)動)。
    PMOS管 空穴遷移率
    但是,固然PMOS管可以很便當(dāng)?shù)赜米鞲叨蓑?qū)動,但由于導(dǎo)通電阻大,交流種類少等緣由,在高端驅(qū)動中,通常還是運(yùn)用NMOS管。
    正常工作時,P溝道增強(qiáng)型MOS管的襯底必需與源極相連,而漏心極的電壓Vds應(yīng)為負(fù)值,以保證兩個P區(qū)與襯底之間的PN結(jié)均為反偏,同時為了在襯底頂表面左近構(gòu)成導(dǎo)電溝道,柵極對源極的電壓Vgs也應(yīng)為負(fù)。
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